成果详情 项目产品带载体可剥离超薄铜箔(以下简称“可剥铜”)箔厚度最薄可至1.5μm,且厚度均匀一致;具备低表面轮廓(Rz约0.4~2.0μm)、极高热稳定性、较高伸长率和拉伸强度、剥离力稳定可控等优异性能,适用于mSAP工艺,应用于超细线路。
带载体可剥离超薄铜箔是制备芯片封装基板、HDI板的必需基材。目前IC载板、类载板的线宽线距已细至10/10μm-40/40μm,用传统的减成法制程工艺无法制备,必须使用mSAP(半加成工艺),而mSAP必须使用可剥铜。公司生产的可剥铜具有厚度极薄、表面轮廓极低、载体层和可剥离层之间的剥离力稳定可控等特性,可满足mSAP的制程要求。
目前,国际领先的铜箔制造商是日本三井铜箔,其生产的带载体超薄铜箔厚度规格为1-5μm。公司带载体可剥离超薄铜箔可填补国家相关技术空白,可打破国外企业在该领域的长期垄断局面,实现进口替代,可应用于IC封装,对与我国高端芯片封装领域密切相关的5G通讯、人工智能、大数据中心、汽车电子等关键行业形成较强支撑;同时项目将产品可应用于洲际导弹、航母、歼击机、各类精确雷达、空间站等军工装备。具体应用为用于军工装备内部先进制程芯片的封装,可实现芯片封装基板超微细线宽线距(35微米以下),高效连接芯片单元与内部PCB线路,实现内部电信号高频高速传播,有效促进军工装备快速化、精确化;同时该材料可提升军工装备内部电路板空间利用率高,实现军工装备小型化、轻量化。
知识产权情况 暂无
应用效果及市场前景 暂无
技术优势 暂无